ترسیب چیست؟

مولف: علی کوثری مهر

ترسیب 

ترسیب یک روش انباشت لایه ضخیم است که در ساده‌ترین نوع آن زیرلایه در زیر یک محفظه قرار می‌گیرد و اجازه داده می‌شود تا ترسیب به صورت طبیعی رخ دهد. این فرآیند در شرایط عادی برای بسیاری از روش‌های انباشت لایه ضخیم دلخواه نیست و سعی می‌شود تا از وقوع آن جلوگیری شود. محدوده‌ی ضخامت پوشش، بازه‌ی گران‌روی جوهر و میزان بارگیری پودر در این روش به ترتیب 1 تا 50 میکرومتر، کوچکتر از 0.01 Pa-s (رفتار نیوتونی جوهر ضروری نیست) و کوچکتر از 0.01 درصد حجمی است. در این روش، بدین دلیل از یک سوسپانسیون با غلظتی اندک از پودر استفاده می‌شود که ذرات بتوانند به صورتی کنترل شده ته‌نشین شوند و ضخامت لایه با دقت بیشتری کنترل گردد. سرعت این فرآیند می‌تواند به کمک یک سیستم سانتریفوژ (گریزانه) افزایش پیدا کند. در ترسیب گرانشی، نرخ انباشت با شتاب گرانشی متناسب است. هنگامی که از یک سیستم سانتریفوژ استفاده می‌گردد، نرخ انباشت متناسب با شعاع گریز از مرکز ضرب در سرعت زاویه‌ای سانتریفوژ به توان دو است. همانطور که مشخص است، این سیستم می‌تواند نرخ انباشت را تا مراتب بزرگ بسیاری در مقایسه با ترسیب گرانشی افزایش دهد. پس از فرآیند سانتریفوژ، نمونه قبل از اینکه خشک و فرآوری شود از مخزن خارج می‌شود و لایه‌‌ای با بدنه‌ی خامی بسیار چگال تشکیل می‌گردد.

منابع:

1. Dorey R (2012) Thick-film deposition techniques: How to make thick films – the processing techniques used to create films. Ceram Thick Film MEMS Microdevices 63–83. Webpage