info@kosartech.com
پوشش‌دهی هواپخش (آئروسل) و پوشش‌دهی سایه‌ای چیست؟
09 آذر 1400 2021
مولف: علی کوثری مهر

پوشش‌دهی سایه‌ای و پوشش‌دهی هواپخش (آئروسل)

پوشش‌دهی هواپخش (آئروسل) یک روش انباشت لایه ضخیم است که به این دلیل که از جوهر مایع استفاده نمی‌کند، در میان روش‌های پوشش‌دهی هدایت شده یک استثنا محسوب می‌شود. البته شایان ذکر است که این روش ویژگی‌های مشترکی نیز با روش پوشش‌دهی با اسپری دارد. محدوده‌ی ضخامت پوشش در این روش 10 تا 200 میکرومتر است. در این روش به جای ریزسازی یا به مقیاس اتمی در آوردن یک جوهر مایع، پودری خشک هم زده می‌شود تا غباری ریزدانه تشکیل گردد. سپس این غبار توسط یک گاز حامل سریع، بلند و حمل می‌شود (مانند یک سیستم زبره‌پاشی). همچنین به جای اتکا بر انباشت یک جوهر و تف‌جوشی متغاقب این پوشش، پوشش‌دهی هواپخش مبتنی بر اثر سرعت بالای ذرات جامد و جریان موم‌سان متعاقب آن‌ها است که نهایتا منجر به تولید پوشش‌هایی با چگالی بالا می‌گردد. اگر ذرات با سرعت پایینی با سطح زیرلایه برخورد کنند، ممکن است جریان موم‌سان به علت انرژی ناکافی اتفاق نیافتد. در نتیجه ممکن است ذرات فقط سطح زیرلایه را بخراشند (همانند زبره‌پاشی). بنابراین، تعادل بین خواص پودر و سرعت برخورد برای موفقیت‌آمیز بودن انباشت پوشش بسیار مهم است.

پوشش‌دهی سایه‌ای یک روش انباشت لایه ضخیم است که مشابه پوشش‌دهی با اسپری است با این تفاوت که ملایم‌تر است تا بتوان با آن زیرلایه‌های بسیار شکننده را نیز پوشش‌دهی کرد. محدوده‌ی ضخامت پوشش، بازه‌ی گران‌روی جوهر و میزان بارگیری پودر در این روش به ترتیب 1 تا 100 میکرو‌متر، کوچکتر از mPa-s 5 و کوچکتر از 5 درصد حجمی است. در این روش به جای اتکا بر جریانی هدایت شده از قطرات، یک مه (بخار غلیظ) سوسپانسیونی در پهنه‌ی زیرلایه پخش می‌گردد. به دلیل اینکه جریان در این روش همه سویی (در تمامی جهات) است، این امکان وجود دارد تا از این روش به منظور پوشش‌دهی درون ساختارهای استوانه‌ای نیز استفاده شود.

منابع:

  1. Dorey R (2012) Thick-film deposition techniques: How to make thick films – the processing techniques used to create films. Ceram Thick Film MEMS Microdevices 63–83. Webpage